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3D接觸角測量儀/水滴角測量儀應用于晶圓 wafer接觸角測值

點擊次數:1901    發布時間:2022-09-26 00:00:00

 美國科諾研制的3D接觸角測量儀針對材料表面的化學多樣性、異構性、表面粗糙度的影響分析具有非常強的實際價值。同時,由于大部分材料的測試表面水平度不夠水平、測試儀器的水平度調整不夠,也會出現角度的偏差。

在具體應用中,主要體現為:

1、測試材料表面的清潔度:分析如液晶玻璃、手機玻璃、PCB板、硅片、晶圓、wafer表面的接觸角值,評估其等離子清洗效果。如果出現左、右角度值偏差超過一定的范圍,即視為清潔失敗。這種方法可以實現快速(一滴液滴即可完成評估)、(角度值誤差1度之內)。

2、評估材料的多樣性情況:通常評估左、右角度值是否均勻,分析材料本身的涂布效果等。

在應用中,如下為一張頂視條件下的wafer表面的水滴角圖片及其擬合效果圖。

水滴角測量-晶圓

水滴角量儀

通過圖片可以明顯看出側視條件下無法看到的情況,擬合的輪廓無法用圓實現擬合。主要是因為光刻蝕后形成的電路結構影響了水滴的吸附,因而,此種情況下只有3D接觸角測量儀才能完成相應的測值。

 

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